Global Leader in ALD Technology
- 产品介绍
- 半导体用
- Lucida S
LucidaTM S 系列原子层沉积
LucidaTMS300
半导体的原子层沉积集群系统设备
沉积薄膜：Al₂O₃, HfO₂, ZᵣO₂, TiO₂……………
基板尺寸：300mm 硅片
PC控制系统
高量产用
LucidaTMS300i
氧化物半导体的原子层沉积集群系统设备
沉积薄膜：InGaZnO(IGZO) - 铟镓锌氧化物
基板尺寸：300mm 硅片
PC控制系统
高量产用