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LucidaTM GS 系列原子层沉积

为晶硅太阳能电池的表面钝化用高产能原子层沉积系统

LucidaTM GS Series

Lucida GS Series

LucidaTM GS Series + Automation

Lucida GS Series automation

应用范围

  • 持有良好的厚度均匀性的 Al2O3表面钝化
  • 为工业化大批生产的适用
  • 工业用全自动化设备
  • 高产能 : 4500片每小时以上, 硅片尺寸为 156 x 156mm2

特征

  • 持有良好的厚度均匀性的Al2O3
  • 先进的工艺kit及紧凑的反应室, 以实现短的循环周期
  • 极其实现化的原子层沉积机制
  • 小的占用面积
  • 综合集成化的工艺单元模组
  • 简便的工艺控制
  • 自动盒式至盒式操作

技术数据

技术数据
型号 材料 硅片尺寸 (mm2) 厚度 (nm) 产能 (wph)
LucidaTM GS200 Al2O3 156x156 4 ≥ 550
LucidaTM GS800 Al2O3 156x156 4 ≥ 2300
LucidaTM GS1200 Al2O3 156x156 4 ≥ 3400
LucidaTM GS1600 Al2O3 156x156 4 ≥ 4500
LucidaTM GS6000 Al2O3 156x156 4 ≥ 6000
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