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LucidaTM GD 系列原子层沉积

为OLED的封止介质层用高产能原子层沉积系统

Process module for LucidaTM GD series

Lucida GS Series

Cluster system for LucidaTM GD series

Lucida GS Series automation

Demo version of LucidaTM GD600

Lucida GS Series automation

应用范围

  • 镀层(Al2O3) 为了柔性基片
  • 穿透率(water vapor transmission rate) of < 5.0x10-4 g/m2·day (氚化水試驗 @30nm Al2O3/PEN 基片)
  • OLED用封止介质层(Al2O3)
  • 为工业化大批生产的适用

优势

  • 高产能 : > 30 panels/hour
  • 极板尺寸 : ≤ 6G (1500 x 1850mm2)

特征

  • 先进的工艺kit及紧凑的反应室, 以实现短的反应气体循环周期
  • 极其实现化的原子层沉积机制
  • 小的占用面积
  • 综合集成化的工艺单元模组
  • 简便的工艺控制

技术数据

技术数据
型号 材料 硅片尺寸 (mm2) 厚度 (nm) 产能 (panel/hour)
LucidaTM GD250 Al2O3 370x470 30 > 30@LL + 3ALD + UL
LucidaTMGD450H Al2O3 730x460 30 > 30@LL + 3ALD + UL
LucidaTM GD450 Al2O3 730x920 30 > 30@LL + 3ALD + UL
LucidaTM GD550Q Al2O3 650x750 30 > 30@LL + 3ALD + UL
LucidaTMGD600H Al2O3 1500x925 30 > 30@LL + 3ALD + UL
LucidaTMGD600 Al2O3 1500x1850 30 > 30@LL + 5ALD + UL
相关Lucida™ GD系列的更详细的适用用途和技术数据