Global Leader in ALD Technology
- 产品介绍
- 平板显示用
- Lucida GD
LucidaTMGD 系列原子层沉积
为OLED的封止介质层用高产能原子层沉积系统
Process module for LucidaTM GD series
Cluster system for LucidaTM GD series
Demo version of LucidaTM GD600
应用范围
- 镀层(Al2O3) 为了柔性基片
- 穿透率(water vapor transmission rate) of<5.0x10-4 g/m2·day (氚化水試驗 @30nm Al2O3/PEN 基片)
- OLED用封止介质层(Al2O3)
- 为工业化大批生产的适用
优势
- 高产能 :>30 panels/hour
- 极板尺寸 :≤6G (1500 x 1850mm2)
特征
- 先进的工艺kit及紧凑的反应室, 以实现短的反应气体循环周期
- 极其实现化的原子层沉积机制
- 小的占用面积
- 综合集成化的工艺单元模组
- 简便的工艺控制
技术数据
| 型号 | 材料 | 硅片尺寸 (mm2) | 厚度 (nm) | 产能 (panel/hour) |
|---|---|---|---|---|
| LucidaTM GD250 | Al2O3 | 370x470 | 30 | >30@LL + 3ALD + UL |
| LucidaTMGD450H | Al2O3 | 730x460 | 30 | >30@LL + 3ALD + UL |
| LucidaTM GD450 | Al2O3 | 730x920 | 30 | >30@LL + 3ALD + UL |
| LucidaTM GD550Q | Al2O3 | 650x750 | 30 | >30@LL + 3ALD + UL |
| LucidaTMGD600H | Al2O3 | 1500x925 | 30 | >30@LL + 3ALD + UL |
| LucidaTMGD600 | Al2O3 | 1500x1850 | 30 | >30@LL + 5ALD + UL |