Global Leader in ALD Technology

  • 메인
  • 产品介绍
  • R&研发用
  • Lucida M

LucidaTM M 系列原子层沉积

Lucida GS Series

LucidaTMM300

研究开发用等离子原子层沉积设备

沉积薄膜：Oxide, Metal, Metal Nitride…..

基板尺寸：100~300mm 硅片

PC控制系统