Global Leader in ALD Technology

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加工服务

为了光学，能源，传感器，生物技术，MEMS等

提供多样的薄膜加工服务用原子层沉积系列

NCD提供多样的薄膜加工服务用原子层沉积系列在公司洁净室内安放，为了光学，能源，传感器，生物技术，MEMS等ALD应用领域。 NCD将研究开发用的Lucida™ D100(100mm), Lucida™ D200(200mm) 原子层沉积系列在公司洁净室内安放，向学校或研究所等提供多样的薄膜加工服务。 由于拥有结晶质硅片太阳能电池的AI2O3钝化工程和大量生产的Lucida™ GS1600 (>3400wafers/hour)原子层沉积系列使得与国内以及中国大陆，台湾，欧洲，等高效率晶硅片太阳能电池制作公司多样的加工服务能够经常实现。 通过TS600 ALD 系统，能做 ZnS, ZnOS等的流程为了CIGS太阳能电池的Cd free 缓冲层 并且使Lucida™ GD ALD 系统，积极上进OLED的encapsulation和缓冲层的样品。

코팅서비스예시

能够服务的物质目录

ALD컬러코팅

ALD decorative color coatings

  • Al2O3 (TMA+H2O(or O3))
  • HfO2 (TEMAHf+H2O(or O3))
  • ZrO2 (TEMAZr+H2O(or O3))
  • TiO2 (TTIP or TDMAT +H2O(or O3))
  • ZnO (DEZ+H2O(or O3))
  • Al doped ZnO (TMA, DEZ+H2O(or O3))
  • ZnS (DEZ+H2S)
  • Ru (RuDi+O2)
  • 以外其它多种物质
  • * (不过可能会因前驱体的持有状况而使得加工服务不能进行)