产品介绍
半导体用
Lucida™ S 系列原子层沉积
Lucida™ S 系列原子层沉积
新概念高产能原子层沉积系统
应用范围
为半导体应用用途的超薄膜
: Al
2
O
3
, HfO
2
, ZrO
2
, TiO
2
, SrTiO
3
等等
300mm硅片
可以应用于对于高产能的需求
特征
持有良好的厚度均匀性和共行阶段覆盖的原子层沉积超薄膜
先进的工艺kit
及其实现化的原子层沉积机制
小的占用面积
综合集成化的工艺单元模组
相关Lucida™ S系列的更详细的适用用途和技术数据
产品介绍