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<Lucida GSH 500>
NCD给韩国客户提供了应用于半导体领域设备中使用的配件保护涂层的原子层沉积设备,此设备可以给常保养配件做防腐蚀及防等离子电弧作用的涂层。
客户使用此设备,可提高工艺的安全性和减少部分损伤,提高配件的使用寿命,减少维护周期从而降低运营费用。
在半导体产业中,生产率及成本竞争力越来越重要。通过此设备特殊沉积功能,减少高价半导体设备产品发生颗粒及损伤,随着配件更换周期减少生产费用减少随之而增加的运营时间,可大幅提高企业的竞争力。
现传统配件保护用涂层一般使用热喷涂层,阳极氧化涂层,溅射涂层,但这些方式的涂层针对形状复杂,细微的产品上受限于涂层的均匀性。但原子层沉积的应用可以解决这些问题。
可用于蚀刻工艺和腔体内部Dry-cleaning的腐蚀性气体和等离子体环境中使用的配件中,特别复杂形状的Showerhead或Electrostatic chuck等可用于原子层沉积。
采用CVD或PVD方式无法做到Showerhead众多微细孔中均匀地涂层,所以必须使用原子层沉积,ESC也要求为硅片lift的销孔内部等均匀的沉积,故而原子层沉积会成为更好的方案。
目前Al2O3原子层沉积方式防护涂层已在多个领域验证。并在积极研发比Al2O3防腐蚀能力更加出色的Y2O3。
本供应设备为 Lucida GSH 500,采用独创的高生产率大面积原子层沉积技术,可一次性加载多个半导体设备配件,同时实现均匀沉积。
NCD今后将继续开发竞争力突出的原子层沉积技术及设备,为扩大新应用领域而努力。