NCD

< Lucida GSH Series ALD >

(株)NCD 再次向韩国客户公司追加提供了用于半导体设备的部件的防腐及防止等离子体 Arcing 的特殊涂层用大型原子层沉积生产设备。
本合同设备是改进的 Lucida GSH Series ALD，与之前供货设备相比，一次可以对更多、更重的产品进行原子层沉积，因此顾客可以期待更大的涂层生产效率的提高和涂层成本的降低。
半导体元件越微细、集成化，以前没有问题的分区及副产品就会对元件的性能产生很大的影响，因此半导体设备使用部分的清洁周期及寿命就会越短。
因此部件的原子层沉积保护涂层可以是非常有效的方案，通过高品质、均匀的原子层涂层，在半导体设备上使用的高价部件，可以不经过清洁或更换，获得增加长使用寿命的效果。
以前原子层沉积保护涂层常适用于 Showerhead 或 ESC 等高价的部件, 但近期，包括复杂的气体,油路在内的多种半导体设备零件或形状复杂的品质产品,低杂质管理要求的高纯度 Precursor canister 等，适用范围有逐步增加的趋势。
 因此，期待本应用领域不断扩大产品和市场。
此次续约再次让客户公司确认了(株)NCD 的产业用原子层沉积技术力和装备的优秀性，抢占了逐渐扩大的部分保护用原子层涂层用装备市场。
 今后，(株)NCD 将以最高的技术力和顾客的信赖为基础，开拓新的原子层沉积市场。