Global Leader in ALD Technology

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LucidaTM GuD 系列原子层沉积

为OLED的封止介质层用高产能原子层沉积系统

Process module for LucidaTM GuD series

Lucida GuD Series

应用范围

  • 镀层(Al2O3) 为了柔性基片
  • 穿透率(water vapor transmission rate) of < 5.0x10-4 g/m2
  • OLED用封止介质层(Al2O3)
  • 为工业化大批生产的适用

优势

  • 高产能 : > 10 wafer/hour (Ref.: 30k/month, Tact Time: 1min @50nm)
  • 极板尺寸 : ≤ 12 inch

特征

  • 先进的工艺kit及紧凑的反应室, 以实现短的反应气体循环周期
  • 极其实现化的原子层沉积机制
  • 小的占用面积
  • 综合集成化的工艺单元模组
  • 简便的工艺控制

技术数据

技术数据
型号 材料 硅片尺寸 (inch) 厚度 (nm) 产能 (panel/hour)
LucidaTM GuD200-C Al2O3 8 30 >10@LL + 5ALD + UL
LucidaTMGuD300-C Al2O3 12 30 >10@LL + 5ALD + UL