| 为晶硅太阳能电池的表面钝化用高产能原子层沉积系统 |
| 应用范围 |
- 为晶硅太阳能电池的Al2O3表面钝化
- 为工业化大批生产的适用
- 工业用全自动化设备
- 高产能 : 3400片每小时以上, 硅片尺寸为 156 x 156㎟
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| 特征 |
- 持有良好的厚度均匀性的Al2O3薄
- 先进的工艺kit及紧凑的反应室, 以实现短的循环周期
- 极其实现化的原子层沉积机制
- 小的占用面积
- 综合集成化的工艺单元模组
- 简便的工艺控制
- 自动盒式至盒式操作
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| 技术数据 |
| 型号 |
材料 |
硅片尺寸
(mm2) |
厚度
(nm) |
产能
(wph) |
| Lucida™ GS800 |
Al2O3 |
156x156 |
10 |
>1700 |
| Lucida™ GS1200 |
Al2O3 |
156x156 |
10 |
>2400 |
| Lucida™ GS1600 |
Al2O3 |
156x156 |
10 |
>3400 |
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Lucida™ GS series
Lucida™ GS series + Automation |
产品介绍